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涂層測(cè)厚儀的新技術(shù)
日期：2024-09-20 19:53
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摘要：
涂層測(cè)厚儀的** 目前，國(guó)內(nèi)國(guó)外不管是出名的品牌還是一般的生產(chǎn)廠家，其測(cè)厚儀的操作方法均需要如下步驟：
1調(diào)零，即在特定的零板上調(diào)零，或在需要測(cè)量的原基材上調(diào)零；
2根據(jù)測(cè)量產(chǎn)品的不同測(cè)量范圍，用適當(dāng)?shù)臏y(cè)試片調(diào)值，以減少測(cè)量上的誤差。這種方法一般情況下，儀器新購(gòu)使用時(shí)還是沒有什么問題的，只是比較繁瑣一點(diǎn)。但當(dāng)探頭使用一段時(shí)間后，問題就出來(lái)了。操作中我們的儀器測(cè)量精度大大減小了。很難把握。原因在于產(chǎn)品的原理，這是一個(gè)致命的缺陷，即探頭是使用一根磁鐵繞線圈。 通上電流后產(chǎn)生磁場(chǎng)，這個(gè)磁場(chǎng)是不規(guī)則的。
還好，現(xiàn)在有一款新型的涂層測(cè)厚儀，它采用的是*新的磁感技術(shù)。也就是我們知道的 霍爾效應(yīng)，霍爾于1879年發(fā)現(xiàn)的。通過研究霍爾電壓與工作電流的關(guān)系，測(cè)量電磁鐵磁場(chǎng)、磁導(dǎo)率、研究霍爾電壓與磁場(chǎng)的關(guān)系 , 霍爾發(fā)現(xiàn)這個(gè)電位差UH與電流強(qiáng)度 I H 成正比，與磁感應(yīng)強(qiáng)度 B 成正比，與薄片的厚度 d 成反比。這個(gè)磁場(chǎng)是就變成規(guī)則的。該原理運(yùn)用在涂層測(cè)厚儀上面就無(wú)需再調(diào)測(cè)試片了。特別是測(cè)量圓弧的或凹面的產(chǎn)品時(shí)，使用更為簡(jiǎn)單和方便了。
1調(diào)零，即在特定的零板上調(diào)零，或在需要測(cè)量的原基材上調(diào)零；
2根據(jù)測(cè)量產(chǎn)品的不同測(cè)量范圍，用適當(dāng)?shù)臏y(cè)試片調(diào)值，以減少測(cè)量上的誤差。這種方法一般情況下，儀器新購(gòu)使用時(shí)還是沒有什么問題的，只是比較繁瑣一點(diǎn)。但當(dāng)探頭使用一段時(shí)間后，問題就出來(lái)了。操作中我們的儀器測(cè)量精度大大減小了。很難把握。原因在于產(chǎn)品的原理，這是一個(gè)致命的缺陷，即探頭是使用一根磁鐵繞線圈。 通上電流后產(chǎn)生磁場(chǎng)，這個(gè)磁場(chǎng)是不規(guī)則的。
還好，現(xiàn)在有一款新型的涂層測(cè)厚儀，它采用的是*新的磁感技術(shù)。也就是我們知道的 霍爾效應(yīng)，霍爾于1879年發(fā)現(xiàn)的。通過研究霍爾電壓與工作電流的關(guān)系，測(cè)量電磁鐵磁場(chǎng)、磁導(dǎo)率、研究霍爾電壓與磁場(chǎng)的關(guān)系 , 霍爾發(fā)現(xiàn)這個(gè)電位差UH與電流強(qiáng)度 I H 成正比，與磁感應(yīng)強(qiáng)度 B 成正比，與薄片的厚度 d 成反比。這個(gè)磁場(chǎng)是就變成規(guī)則的。該原理運(yùn)用在涂層測(cè)厚儀上面就無(wú)需再調(diào)測(cè)試片了。特別是測(cè)量圓弧的或凹面的產(chǎn)品時(shí)，使用更為簡(jiǎn)單和方便了。
